濺射靶材
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氧化鈮靶材 Niobium oxide target
公司生產(chǎn)的氧化鈮靶材采用先進(jìn)的真空熱壓、熱等靜壓和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。
所屬分類：
陶瓷靶材
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產(chǎn)品描述
公司生產(chǎn)的氧化鈮靶材采用先進(jìn)的真空熱壓、熱等靜壓和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型。
Our niobium oxide target including rectangular target, arc target and tube target is manufactured by hot isostatic pressing, hot pressing, and thermal spraying technology. Our niobium oxide target by HIP has been applied for Chinese invention patent with independent intellectual property rights. The patent number is CN105734506A.
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氧化鈮靶 Niobium oxide target |
性能 Product performance |
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化學(xué)成分/at% Composition |
Nb2Ox，x=4.5～4.8 |
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純度/% Purity |
99.99 |
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密度/g/cm3 Density |
≥4.5 |
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晶粒度/μm Grain size |
≤5 |
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金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities |
≤100 |
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電阻率/Ω.cm Resistivity |
5×10-4 |
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規(guī)格尺寸/mm Size |
平面靶 Planar target |
熱等靜壓/熱壓，≤500×250 Hot isostatic pressing/Hot pressing |
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旋轉(zhuǎn)靶 Rotating target |
熱噴涂成形 thermal spraying 長度Length≤4000 厚度Thickness≤10 |
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關(guān)鍵詞：
鉻靶材,鉻靶
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公司地址：北京市平谷區(qū)熊兒寨鄉(xiāng)東路16號
聯(lián)系電話：131-4682-7737 153-3336-1951