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硅鋁靶材 SiAl

公司生產(chǎn)的硅鋁靶材采用先進(jìn)的熱等靜壓工藝和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類(lèi)型，具有成分比例范圍寬（鋁含量為10at%~90at%）、純度和密度高、晶粒細(xì)小均勻、使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。

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產(chǎn)品描述

公司生產(chǎn)的硅鋁靶材采用先進(jìn)的熱等靜壓工藝和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類(lèi)型，具有成分比例范圍寬（鋁含量為10at%~90at%）、純度和密度高、晶粒細(xì)小均勻、使用壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。硅鋁靶材典型的成分比例有90:10wt%、70:30wt%等，也可按照客戶(hù)要求定制特殊成分和規(guī)格靶材。

Our silicon-aluminum target including rectangular target, arc target and tube target is manufactured by hot isostatic pressing and thermal spraying technology and has the advantages of wide range of component (The content of aluminum is 10% ~ 90at%), high purity and density, fine and uniform grain size and long service life. The typical component of silicon-aluminum target is 90:10wt%, 70:30wt% and so on. The silicon-aluminum target of special component and specification can also be customized according to the customer's requirements.

硅鋁靶 Silicon-aluminum target		性能 Product performance
化學(xué)成分/at% Composition		Si90Al10	Si70Al30
純度/% Purity		99.8	99.8
密度/g/cm³ Density		≥2.31	≥2.41
晶粒度/μm Grain size		≤100	≤100
金屬雜質(zhì)總和/ppm Total content of metallic impurities		≤2000	≤2000
規(guī)格尺寸/mm Size	平面靶 Planar target	熱等靜壓 Hot isostatic pressing ≤1000×250	熱等靜壓 Hot isostatic pressing ≤1000×250
	旋轉(zhuǎn)靶 Rotating target	熱噴涂成形 thermal spraying 長(zhǎng)度Length≤4000 厚度Thickness≤15	熱噴涂成形 thermal spraying 長(zhǎng)度Length≤4000 厚度Thickness≤15

SiAl (90:10 wt%)

成分(elements)	硅(Si)	鋁（Al）	鐵（Fe）	銅(Cu)	錳（Mn)	碳(C)	鈣（Ca）	氧(O)	氮(N)
測(cè) 試值（wt%)（Test values）	90.19	9.66	≤0.074	0.002	0.002	0.04	0.002	≤0.04	0.04
密度（g/cm³）（Density)	2.36

SiAl (70:30 wt%)

成分(elements)	硅(Si)	鋁（Al）	鐵（Fe）	銅(Cu)	錳（Mn)	碳(C)	鈣（Ca）	氧(O)	氮(N)
測(cè) 試值（wt%)（Test values）	70.81	28.93	≤0.071	0.002	0.002	0.04	0.002	≤0.05	0.04
密度（g/cm³）（Density)	2.42